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公司拥有国际先进的磷化铟基半导体生产线,1400平方米百级/千级超净室生产车间、2000多平方米办公/检测厂房,步进光刻机、EBL电子束曝光机等完备齐整的研发制作设备,最高光刻精度<10nm。具备EBL光栅写直、刻蚀等代工服务能力,且能够满足客户的订制要求。
隐藏域元素占位
公司拥有国际先进的磷化铟基半导体生产线,1400平方米百级/千级超净室生产车间、2000多平方米办公/检测厂房,步进光刻机、EBL电子束曝光机等完备齐整的研发制作设备,最高光刻精度<10nm。具备EBL光栅写直、刻蚀等代工服务能力,且能够满足客户的订制要求。
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